Trichlorosilane

Mae Trichlorosilane (TCS, SiHCl₃, CAS 10025-78-2) yn hylif di-liw, hynod anweddol gydag arogl hydrogen clorid sydyn, tagu. Gan ferwi ar 31.8 gradd ac ymateb yn dreisgar â lleithder, dyma'r porthiant allweddol ar gyfer proses Siemens i gynhyrchu polysilicon purdeb uchel ar gyfer celloedd solar ffotofoltäig a wafferi lled-ddargludyddion. Mae TCS hefyd yn cael ei ddefnyddio'n helaeth mewn twf wafferi epitaxial silicon, synthesis organosilicon (olewau silicon, rwberi, resinau, asiantau cyplu), dyddodiad ffilm tenau silicon CVD, ac fel asiant lleihau dethol mewn synthesis organig. Ar gael mewn gradd ddiwydiannol (Yn fwy na neu'n hafal i 99.0%) a gradd electronig (purdeb hyd at 9N). Wedi'i ddosbarthu fel dŵr-adweithiol ac yn fflamadwy iawn (CU 1295, Dosbarth 4.3+2.3, PG I) gydag ystod ffrwydrol hynod o eang o 1.2%–90.5%; trin dim ond o dan amodau llym anhydrus gyda diogelu nitrogen sych.